荷兰：阿斯麦ASML，诠释“伟大公司（二）”

阿斯麦的伟大

摩尔定律失效，阿斯麦拯救整个半导体产业。

光刻机是半导体行业的最关键设备，因为光刻工艺决定了半导体线路的线宽，也就是决定了芯片的集成度，也决定了芯片的性能和功耗。

摩尔定律，是Intel创始人之一戈登·摩尔（Gordon Moore）提出来的：当价格不变时，芯片的集成度每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。

但是，这个集成度的提高有个物理上的极限，这个极限就是光刻机所采用的激光的波长。

1、VIS可视：可见光光谱，就是中国小孩常说的“红橙黄绿蓝锭紫”，国外小孩则说ROY G. BIV。可见光波长范围是：380-780nm

2、IR红外线是波长0.7-100μm的可见光波长的电磁波。 近红外(NIR)： 0.7-2.5μm，红外：2.5-25μm，远红外25-100μm

3、在可见光的紫色光和软X射线之间的电磁波，称为紫外线Ultra Violet，简称UV，意思是在电磁波谱中处于紫色光的外侧。UV紫外线波长范围是：10‐400nm。（注：软X射线就是医院里面牙科、骨科放射成像用的电磁波。）

紫外光UV按波长可分为以下三种类：

· 近紫外线（near UV）：200-380nm

· 真空紫外线(vacuumUV〈VUV〉：10-200nm

· 极紫外线、极端紫外线(Extreme UV〈EUV〉）：1-10nm。应用实例：生物科学相关（主要为蛋白质分析）的分析仪器、水处理装置、表面处理装置、光清洗装置、环境卫生设备、ＵＶ硬化装置、光化学反映装置等。

DUV-EUV

阿斯麦把光刻机按紫外激光光源的波长分为：

· DUV光刻机： Deep Ultra Violet，深紫外光； DUV光刻机的极限工艺节点是28nm

· EUV光刻机：Extreme Ultra Violet，极紫外光。

从2012年开始，光刻机技术没有发生革命性变化，著名的摩尔定律开始失效，半导体行业发展缓慢，2015年甚至出现了2.3%的负增长。半导体行业迫切需要使用EUV来提高光刻能力。

阿斯麦的努力：

2013年阿斯麦的EUV光刻机研发成功，使用的光源是22nm；

2017年达到13nm，使得7nm线宽的制程可以实现。

要想开发10纳米以下的制程，就必须有极紫外EUV光刻机，而全球只有阿斯麦一家有EUV光刻机。也就是说阿斯麦能不能开发出来EUV光刻机，将直接决定半导体行业的制程能不能发展到10纳米以下。

目前，阿斯麦的EUV光刻机已经开始出货：2017年出货12台，2018年预计出货24台，2019年预计出货30台。

因此，整个半导体行业把阿斯麦称为“摩尔定律的守护者”。这无疑是整个行业对一个公司的最高赞誉了。

看看ASML的经营数据

依据：2018-2-7发布的2017年年报20-F

员工：19,041人，其中研发人员超过6000人，研发人员占比超过36%。

净利率：24.58%，超过了苹果的19%，腾讯的18%。

中国的光刻机研制

最后说说国内对光刻机的研制。

这些年来，国内一直有设备厂商和研究机构在研发光刻机，如上海微电子、中电四十五所、中电四十八所等。

上海微电子，则研发出了中端的投影式光刻机。

所以说，不是中国人自己不想研制光刻机，而是要研制出国际一流的光刻机，所面临的困难实在太多太难。

特别值得一提的是，2016年初，光刻机核心子系统“双工件台系统”样机研发项目通过内部验收，为我国自主研发65nm至28nm双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础。

希望中国自身的光刻机产业能不断取得进展；希望中国能更开放，更主动融入全球产业大合作。