最近这一周,有一个科技新闻传的很厉害,说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理,可以突破光刻机的卡脖子技术难题,甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了,还有图有真相,说得有鼻子有眼。
很多人来问我是不是真的,我先说答案:新的光源产生原理是真的,但那个早在2010 年就提出了,目前还处在原理验证阶段,离真正实用少说也还有 15 到 20 年的时间。而这次热炒的清华大学的论文其实也是 2021 年初就发表了,不知道为什么两年半后突然被挖坟出来热炒。至于雄安建什么光刻厂云云,那就是以讹传讹,子虚乌有了。
今天刚好借着这个话题,来跟大家聊聊造一个光刻机为什么那么难,中国有没有可能完全独立自主研发出最先进的光刻机。
肖之邦
我只知道没有mp1,苹果3g出来之前苹果做的不是手机
快乐_是什么_
制造业,很多都是静下心来一点点积累。模仿起来速度是很快的,但是弯道超车,想有捷径在制造业基本上不大可能。
浪飝 回复 @快乐_是什么_:
弯道只会翻车
肖之邦 回复 @快乐_是什么_:
我只知道没有mp1,苹果3g出来之前苹果做的不是手机
快乐_是什么_ 回复 @肖之邦:
苹果4才取代诺基亚,你猜它为啥叫4,而不叫苹果1?
fly2233
写得好!破解了我的疑惑。科普太有必要了!
吃吃1路
怎么还不科普日本核污水的事?
思品个鸡腿哦 回复 @勿学姑瑶草:
你吃呗 没人拦着
VQAH5DA5ZSQ 回复 @吃吃1路:
已经说的很清楚了!好几期末尾都说了,原因和他的观点都表达了,还要说什么
勿学姑瑶草 回复 @思品个鸡腿哦:
本来就可以
那心里的yu
讲真的,清华大学的东西我真不信!
1857571zktl 回复 @那心里的yu:
我们老板是清华的,天天又想不花钱又想挣钱
1399227bbik
汪老师,还是有点错误,激光不是直接去刻蚀硅基板,而是去刻硅基板表面的光刻胶
星雨尘2000 回复 @1399227bbik:
二次图形转移,图像复印技术+刻蚀技术,光刻胶是中转层。