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最近这一周,有一个科技新闻传的很厉害,说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理,可以突破光刻机的卡脖子技术难题,甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了,还有图有真相,说得有鼻子有眼。


很多人来问我是不是真的,我先说答案:新的光源产生原理是真的,但那个早在2010 年就提出了,目前还处在原理验证阶段,离真正实用少说也还有 15 到 20 年的时间。而这次热炒的清华大学的论文其实也是 2021 年初就发表了,不知道为什么两年半后突然被挖坟出来热炒。至于雄安建什么光刻厂云云,那就是以讹传讹,子虚乌有了。

今天刚好借着这个话题,来跟大家聊聊造一个光刻机为什么那么难,中国有没有可能完全独立自主研发出最先进的光刻机。



添添巫

这个科普一出来,U型锁不是要抓狂

回复@添添巫
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其他用户评论

快乐_是什么_

制造业,很多都是静下心来一点点积累。模仿起来速度是很快的,但是弯道超车,想有捷径在制造业基本上不大可能。

浪飝 回复 @快乐_是什么_

弯道只会翻车

肖之邦 回复 @快乐_是什么_

我只知道没有mp1,苹果3g出来之前苹果做的不是手机

快乐_是什么_ 回复 @肖之邦

苹果4才取代诺基亚,你猜它为啥叫4,而不叫苹果1?

fly2233

写得好!破解了我的疑惑。科普太有必要了!

吃吃1路

怎么还不科普日本核污水的事?

思品个鸡腿哦 回复 @勿学姑瑶草

你吃呗 没人拦着

VQAH5DA5ZSQ 回复 @吃吃1路

已经说的很清楚了!好几期末尾都说了,原因和他的观点都表达了,还要说什么

勿学姑瑶草 回复 @思品个鸡腿哦

本来就可以

那心里的yu

讲真的,清华大学的东西我真不信!

1857571zktl 回复 @那心里的yu

我们老板是清华的,天天又想不花钱又想挣钱

1399227bbik

汪老师,还是有点错误,激光不是直接去刻蚀硅基板,而是去刻硅基板表面的光刻胶

星雨尘2000 回复 @1399227bbik

二次图形转移,图像复印技术+刻蚀技术,光刻胶是中转层。