光刻工艺：集成电路制造中最复杂、最关键的工艺步骤
•光刻工艺有两个重要意义：
1）从价格方面来讲，一片硅片的处理费用与硅片上的芯片数目关联性不强，如果一个硅片能够接纳更多的芯片，则单个芯片的成本将降低。
2）从性能上来讲，摩尔定律指出，当价格不变时，集成电路上可接纳的元器件数目，每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。
光刻机：半导体设备的最高峰
•光刻机是实现光刻工艺的关键设备，光刻机将掩膜版上的电路结构图复制到硅片上，启动芯片生产。
•光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的设备。光刻机是现代工业的集大成者，其难度包括激光光源、物镜系统、机台设计等等。
•光刻机主要分为EUV光刻机、 DUV光刻机。 EUV是最高端的光刻机，其研发周期长达十余年，是光刻机皇冠上的明珠。
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