光刻机是谁发明的

光刻机是谁发明的

尼埃普斯。

光刻机的发明时间较早，但却并未在行业中得到应用，直到第二次世界大战时，才被应用到印刷电路板上，在塑板上通过铜线路制作，才让电路板得到普及，然后就成为看电子设备领域中关键的材料之一。

刻机的主要性能指标有

支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

光刻机（lithography）

又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。